TYPE-C電(diàn)源适配器的失效分(fēn)析方法四
光學(xué)显微镜分(fēn)析技术
光學(xué)显微镜是进行電(diàn)子元器件、半导體(tǐ)器件和集成電(diàn)路失效分(fēn)析的主要工具之一。在TYPE-C電(diàn)源适配器失效分(fēn)析中使用(yòng)的光學(xué)显微镜主要有(yǒu)立體(tǐ)显微镜和金相显微镜。立體(tǐ)显微镜的放大倍数较低，从几倍到上百倍，但景深大；金相显微镜的放大倍数较高，从几十倍到一千多(duō)倍，但景深较小(xiǎo)。立體(tǐ)显微镜的放大倍数是连续可(kě)调的，而金相显微镜可(kě)通过变换不同倍数的物(wù)镜来改变显微镜的放大倍数，以适应观察不同对象的需要。立體(tǐ)显微镜和金相显微镜结合使用(yòng)，可(kě)用(yòng)来进行元器件的外观以及失效部位的表面形状、分(fēn)布、尺寸、组织、结构、缺陷和应力下的各种烧毁与击穿现象、引線(xiàn)内外结合情况、芯片裂缝、玷污、划伤、氧化层缺陷及金属层腐蚀情况等。
立體(tǐ)显微镜和金相显微镜除了放大倍数不同外，其结构、成像原理(lǐ)及使用(yòng)方法都基本相似。它们均是用(yòng)目镜和物(wù)镜组合来成像的，立體(tǐ)显微镜一般成正像，而金相显微镜所成的像是倒像。像的放大倍数是目镜和物(wù)镜两者放大倍数之积。立體(tǐ)显微镜和金相显微镜均有(yǒu)入射和投射两种照相方式，并且配有(yǒu) 一些辅助装置，可(kě)提供明场、暗场、微分(fēn)干涉相衬和偏振等观察手段，以适应不同观察的需要。此外，还配有(yǒu)照相装置以进行图像记录。
在金相显微镜的观察中，type-c電(diàn)源适配器样品的制备是非常重要的，应根据观察的目的选取制备适当的观察面，使所要观察的缺陷与观察面相交。有(yǒu)时，还要选取适当的显示剂，以保证所选平面上的缺陷能(néng)被清晰地显示出来。如果观察面选取不当，则有(yǒu)时会观察不到所要观察的缺陷。例如，当观察、分(fēn)析芯片内部的缺陷或测量结深时，由于所要观察的區(qū)域是很(hěn)狭小(xiǎo)的，采用(yòng)直角剖切方法不足以分(fēn)析所要观察的界面區(qū)域，就应该采用(yòng)具有(yǒu)放大作用(yòng)的斜角剖截面的方法。
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